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氧化铝陶瓷成半导体关键配套材料,国产化进程稳步推进

来源:system 发布日期:2026-07-29 14:35:30
摘要:半导体制造设备对材料纯度、化学稳定性、尺寸精度要求严苛,高纯氧化铝陶瓷凭借低金属离子析出、耐卤素腐蚀、高温绝缘等特性,成为刻蚀设备、薄膜沉积设备、高温热处理腔体的核心配套材料。

半导体制造设备对材料纯度、化学稳定性、尺寸精度要求严苛,高纯氧化铝陶瓷凭借低金属离子析出、耐卤素腐蚀、高温绝缘等特性,成为刻蚀设备、薄膜沉积设备、高温热处理腔体的核心配套材料。

晶圆舟皿、陶瓷定位环、绝缘支柱、气体喷淋组件等零部件大量采用 99.6% 及以上品级氧化铝陶瓷。在芯片制造高温、等离子、强腐蚀环境下,氧化铝陶瓷不会污染晶圆,保障芯片生产良率。过去高端半导体陶瓷零部件长期依赖外部供应,近些年国内材料研发、精密加工水平持续提升,逐步实现多品类零部件替代。

随着国内多条晶圆产线扩建,半导体领域氧化铝陶瓷零部件市场空间持续释放,同时倒逼行业建立更高标准的纯度管控、超精密研磨、表面处理体系。


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